Polvo de pulido FO 1500 mesh D50:5,5±0,5 µm
| Artículo | Tamaño | Peso específico | Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | TiO2 | ZrO2 |
| polvo de pulido FO | 1500 mallas | ≥3,90 | ≥40,5% | ≤20,0% | ≤0,7% | ≤2,0% | ≤33,0% |
Distribución del tamaño de partícula (PSD) del polvo de pulido FO de 1500 mallas D50: 5,5 ± 0,5 µm
| Tamaño | D0(um) | D3(um) | D50(uno) | D94(um) |
| 1500 mallas | ≤19.0 | ≤17,0 | 5,5±0,5 | ≥3.0 |
Principales aplicaciones del polvo de pulido FO
–Pulido y rectificado de obleas semiconductoras
–Acabado superficial de diversos vidrios ópticos
–Rectificado y pulido de lentes, prismas, espejos, filtros, etc., de cristales ópticos.
–Acabado superficial de materiales piezoeléctricos
Empaquetado del polvo de lapeado FO
Sacos de PVC de 10 kg + palé
