Polvo para lapeado FO 2000mesh, similar FUJIMI
Propiedades físicas y composición química del polvo de pulido FO 2000 mesh, similar a FUJIMI
| Artículo | Tamaño | Peso específico | Al2O3 | SiO2 | Fe2O3 | TiO2 | ZrO2 |
| FO | 2000# | ≥3,90 | ≥40,5% | ≤20,0% | ≤0,7% | ≤2,0% | ≤33,0% |
Distribución del tamaño de partícula (PSD) del polvo de pulido FO 1500
| Tamaño | D0 | D3 | D50 | D94 |
| #2000 | ≤15.0 | ≤14.0 | 4,5±0,4 | ≥2.0 |
Polvo de pulido FO – Aplicaciones principales
–Pulido y rectificado de obleas semiconductoras
–Acabado superficial de diversos vidrios ópticos
–Rectificado y pulido de lentes, prismas, espejos, filtros, etc., de cristales ópticos.
–Acabado superficial de materiales piezoeléctricos
Empaquetado del polvo de pulido FO
20 kg de sacos de papel + palé
