FO 1000/1200/1500 para el rectificado de obleas semiconductoras

El FO también se denomina polvo de pulido FO, similar al FUJIMI FO, y se utiliza principalmente para el rectificado y pulido de obleas de semiconductores/silicio, vidrios ópticos, etc.

FO 1000/1200/1500 para el rectificado de obleas semiconductoras

POLVO DE ESMERALDA
FO

FO 1000/1200/1500 para el rectificado de obleas semiconductoras. Propiedades físicas y composición química %

 artículoTamañoPeso específico

(g/cm³)

Químico(%)
Al2O3SiO2Fe2O3TiO2ZrO2
Esmeril óptico#800-#1200≥3,90≥45,0≤20,0≤0,5≤2.0≤33,0
 #1500-#3000≥3,90≥40,5≤20,0≤0,7≤2.0≤33,0

Distribución del tamaño de partícula (PSD) de FO 1000/1200/1500 para el rectificado de obleas semiconductoras

Tamaño D0(um)D3(um)D50(uno)D94(um)
#800≤32,0≤27,011,3±0,9≥6,5
#1000≤27,0≤23,09,4±0,8≥5.0
#1200≤23,0≤20,07,1±0,7≥4.0
#1500≤19.0≤17,0 5,5±0,5≥3.0
#2000≤15.0≤14.04,5±0,4≥2.0
#3000≤12.0≤11.03,6±0,4≥1,5

FO 1000/1200/1500 para el rectificado de obleas semiconductoras. Principales aplicaciones.

–Pulido y rectificado de obleas semiconductoras

–Acabado superficial de diversos vidrios ópticos

–Rectificado y pulido de lentes, prismas, espejos, filtros, etc., de cristales ópticos.

–Acabado superficial de materiales piezoeléctricos

Embalaje de FO 1000/1200/1500 para el rectificado de obleas semiconductoras

Sacos de PVC de 10 kg + palé

 

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